英特尔/美光25纳米工艺晶圆工厂直击

　　前不久，Intel、美光合资闪存制造企业IM Flash Technologies, LLC(IMFT)宣布已经开始试制25bn工艺NAND闪存芯片。除了纸面宣布外，他们实际上还邀请了多家媒体到IMFT位于美国犹他州Lehi的25nm工艺晶圆厂进行参观。

位于雪山脚下的IMFT工厂

工厂结构图

　　工厂结构，制造半导体产品最关键的无尘室位于第三层，加压吊顶形成由上向下的气流，设备维护工作则在二层的“SubFab”层完成。

进入工厂的准备工作

　　进入无尘室之前的“打包”过程。（由于无尘室内部的严格要求，实际上以下内部照片均来自IMFT官方）

无尘工厂内部

　　晶圆厂内走廊，顶端的自动运输系统（AMHS）正在以每小时13公里的速度将晶圆在各个制造环节间运输，24小时不停歇。每个运载器都搭载了一个FOUP（前端开口片盒），其中可装载最多25片300mm晶圆。

厂内地面全部打孔，保证空气从上向下流通，将落尘可能减到最小。

FOUP片盒挂接在一个制造阶段设备上，后面的那个正在被AMHS吊起。

　　几乎所有制造过程均为自动完成，因此厂内大部分工人的工作就是保证这些设备正常运行。